超快陰影泵浦探測(cè),飛秒陰影泵浦探測(cè),超快泵浦探測(cè)陰影成像系統(tǒng)UPSI100主要利用調(diào)節(jié)pump和probe光之間的光程差來進(jìn)行測(cè)試。首先激光打在樣品上，樣品表面會(huì)產(chǎn)生一定程度的損毀，由于本過程很快（ps量級(jí)）因此單使用相機(jī)連續(xù)采集不能夠完整的觀察到整個(gè)損毀的過程。

超快泵浦探測(cè)陰影成像系統(tǒng)UPSI100主要利用調(diào)節(jié)pump和probe光之間的光程差來進(jìn)行測(cè)試。首先激光打在樣品上，樣品表面會(huì)產(chǎn)生一定程度的損毀，由于本過程很快（ps量級(jí)）因此單使用相機(jī)連續(xù)采集不能夠完整的觀察到整個(gè)損毀的過程。在本儀器中，當(dāng)每一次激光打在樣品后，便可通過延遲線調(diào)節(jié)兩個(gè)光脈沖之間的延遲，從而分別采集激光打在樣品后不同時(shí)刻樣品損毀情況。

超快泵浦探測(cè)陰影成像系統(tǒng)UPSI100主要技術(shù)指標(biāo)：

本功能主要利用相機(jī)的門采集功能以及延遲來采集不同時(shí)刻，樣品等離子體濺射過程。整個(gè)測(cè)試流程是激光聚焦打在樣品上，樣品會(huì)產(chǎn)生等離子體此時(shí)相機(jī)的曝光時(shí)間固定，曝光時(shí)間就相當(dāng)于一個(gè)“門"，再通過時(shí)序來調(diào)節(jié)“門"相對(duì)于激光打在樣品上的時(shí)間為0來進(jìn)行延遲，從而分別拍出不同時(shí)間等離子體的濺射過程。