創(chuàng)銳光譜堅持自主創(chuàng)新、技術獨立推進高端科研儀器國產(chǎn)化替代和前沿引領

更新時間：2025-04-14

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在當下國際經(jīng)濟與科技格局中，貿(mào)易摩擦風云變幻，深刻影響著各個領域的發(fā)展走向。加速科研設備的國產(chǎn)化替代進程已然成為我國科研及相關產(chǎn)業(yè)持續(xù)、穩(wěn)健發(fā)展的必然選擇與迫切需求。

創(chuàng)銳光譜作為時間分辨光譜技術領域的企業(yè)，自2016年成立之初，便堅持走高端科研儀器自主研發(fā)、自主生產(chǎn)的發(fā)展路線。堅持核心部件自研，將解決“關鍵技術卡脖子”問題作為目標。歷經(jīng)近10年的艱苦探索，已成功實現(xiàn)包括納秒激光器、OPO、高速光電探測器、高穩(wěn)定直線位移臺、單色儀等在內(nèi)的多個核心零部件研發(fā)或國產(chǎn)化替代，形成穩(wěn)定的自研及本土供應系統(tǒng)。部分核心技術指標更是實現(xiàn)對國外進口設備的超越。創(chuàng)銳光譜基于深厚的技術積累與創(chuàng)新實踐，陸續(xù)構建起涵蓋瞬態(tài)吸收系列、熒光光譜系列、非線性光學系列、高速光電探測器、高能高頻納秒激光器、泛半導體光學無損檢測系列等總計六大類，近30款相關產(chǎn)品，為我國科研及相關產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供了有力的技術支撐與產(chǎn)品保障。

代表產(chǎn)品：

超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)

首套國產(chǎn)超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)

自研直線位移臺、自研高速光譜儀、自研分析軟件

時間窗口：8 ns

覆蓋光譜范圍：280-1650 nm

時間分辨率1.5x 激光脈寬

系統(tǒng)信噪比：≤10-5 OD

支持可見、近紅外成像探測

支持透射、反射等多種測試模式

全國產(chǎn)化閃光光解系統(tǒng)

自研單色儀、自研納秒激光器

·雙單色儀設計，在樣品前分光，有效減少樣品損傷

·配備500 M示波器，時間分辨率高達2 ns

·多功能樣品室，并可搭配流動池使用

·全自動數(shù)據(jù)采集/分析系統(tǒng)，支持多種模式數(shù)據(jù)擬合程序

高能高頻DPSS連續(xù)可調(diào)一體式激光器

一體式機身，高能高頻輸出，針對醫(yī)療、環(huán)境探測、激光雷達領域。波長連續(xù)可調(diào)諧。

國產(chǎn)化百KHz雙線陣探測器

SiC，作為優(yōu)秀的第三代半導體材料，在6G技術發(fā)展、航空航天等前沿領域占據(jù)著重要的地位。但SiC 晶圓無損缺陷檢測技術的缺失，一直是制約我國相關產(chǎn)業(yè)發(fā)展的難題。相關廠商每年因有損檢測導致的晶圓損耗金額高達千萬元，這不僅造成資源浪費，也阻礙了產(chǎn)業(yè)的高效發(fā)展。創(chuàng)銳光譜創(chuàng)新性地將時間分辨光譜技術運用在SiC晶圓無損檢測上，推出世界首套SiC位錯無損檢測系統(tǒng)。這對于國內(nèi)SiC企業(yè)降本增效、從源頭上降低全行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈的生產(chǎn)成本，有著積極重要的意義。

SiC晶圓襯底位錯無損檢測系統(tǒng)

關鍵指標：

支持晶圓尺寸：4’/6’/8’/12’

支持晶錠尺寸：8’

位錯類型：TED/BPD/TSD

單片檢測時間：≤5 min（自動多倉版）；15 min（手動版）

無損檢測，可實現(xiàn)自動片片檢，全面提升晶圓良率。

創(chuàng)銳光譜愿與國內(nèi)所有科研單位及國產(chǎn)企業(yè)攜手共進，全力推動科研設備國產(chǎn)化進程，共同書寫屬于中國科技的崛起篇章。

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